वस्त्र
थर्मल इन्सुलेशन अनुप्रयोग के लिए सिलिका एयरगेल ग्रैन्यूल
सिंहावलोकन
सिलिका एयरगेल दुनिया की सबसे अच्छी थर्मल इन्सुलेशन सामग्री है। ये अल्ट्रा कम घनत्व के साथ नैनोपोरस सामग्री हैं। शाब्दिक रूप से एयरगेल का मतलब है हवा से भरे जैल। मोनोलिथिक शुद्ध सिलिका एयरगेल प्रकृति में अत्यधिक नाजुक हैं और यह इसके व्यावसायिक उपयोग के लिए प्रमुख गिरावट कारक था। इससे सिलिका एयरगेल के नए उपयोग करने योग्य रूप बने, अर्थात् फाइबर सुदृढीकरण और दानेदार एयरगेल द्वारा बनाई गई लचीली चादरें। ARCI है सिलिका एयरजेल लचीली चादरों के विश्व स्तरीय उत्पाद पर शुरू किया गया और यह व्यावसायीकरण के अधीन है। दानेदार सिलिका एयरजेल भी हैं एआरसीआई में एक नई विधि का उपयोग करके विकसित किया गया है जिसके लिए पेटेंट लागू किया गया है। दानेदार सिलिका एयरजेल का उपयोग बहुत आसानी से किया जा सकता है कई तरीकों से जैसे कि उन्हें इंसुलेटेड होने वाली वस्तु के चारों ओर भरकर या इन्हें धातु, कांच, लकड़ी की प्लेटों, कपड़े के बीच सैंडविच किया जा सकता है आदि। और पेंट, सीमेंट, ईंटों, इन्सुलेशन पैनलों आदि के लिए एक योजक के रूप में भी इस्तेमाल किया जा सकता है।
मुख्य विशेषताएं
- ग्रेन्युल आकार: ~ 1 मिमी (ट्यून करने योग्य)
- पैकिंग घनत्व: 0.07 ग्राम /
- थर्मल स्थिरता: - 200 oC से 800 oC
- सतह क्षेत्र: ~ 800 m2 /
- तापीय चालकता: आरटी पर 0.03 डब्ल्यू /
- रंग: पारभासी या अपारदर्शी या काला (कार्यक्षमता के आधार पर)
- आईआर ओपेसीफिकेशन के लिए इन-सीटू कार्बन डोपिंग संभव है
- हाइड्रोफिलिक या हाइड्रोफोबिक
संभावित अनुप्रयोग
थर्मल इन्सुलेट- पेंट
- निर्माण सामग्री जैसे सीमेंट, ईंट, दीवार प्लास्टर आदि
- विंडो पैनल
- वस्त्र
- हीट/कोल्ड स्टोरेज
बौद्धिक संपदा विकास सूचकांक (IPDI)

- ~ वर्तमान में उपलब्ध प्रयोगशाला उत्पादन सुविधा से एक बैच में 1 किलो सिलिका एयरोजेल ग्रैन्यूल का उत्पादन किया जा सकता है
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प्रमुख पेटेंट / प्रकाशन
प्रमुख पेटेंट
प्रमुख प्रकाशन
- भारतीय पेटेंट संख्या 290370: सिलिका एयरगेल ग्रैन्यूल युक्त कार्बन के उत्पादन के लिए बेहतर विधि, नेहा हेबालकर
अल्ट्राथिन ग्राफीन नैनोप्लेटलेट्स का स्केलेबल उत्पादन
सिंहावलोकन
2-डी ग्राफीन नैनोशीट्स, जो एक परमाणु मोटी एसपी 2 कार्बन नेटवर्क से बना है, अपने उत्कृष्ट विद्युत, थर्मल मैकेनिकल, इलेक्ट्रॉनिक, रासायनिक गुणों और उच्च सतह क्षेत्र के कारण औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए बड़ी क्षमता दिखाता है। एक्सफोलिएशन और विखंडन के माध्यम से ग्राफीन की तैयारी बड़ी मात्रा में ग्राफीन-आधारित प्रवाहकीय सामग्री का उत्पादन करने के लिए सबसे प्रभावी तरीकों में से एक है। माइक्रोवेव विकिरण के माध्यम से एक्सफोलिएशन अन्य सभी तरीकों की तुलना में बहुत अधिक लागत प्रभावी है क्योंकि यह सामग्री को समान रूप से और प्रभावी ढंग से गर्म करता है। ग्रेफाइट संरचनाओं में हेक्सागोनल कार्बन संरचनाओं की परतें होती हैं जिनके भीतर एक रासायनिक यौगिक को परस्पर जोड़ा जा सकता है और कीड़े जैसे संरचित एक्सफोलिएटेड ग्रेफाइट में बड़ी संख्या में छिद्र बनाकर थर्मल शॉक के कारण बच जाता है। इस अनूठी प्रक्रिया ने बेहद छिद्रपूर्ण संरचना के साथ 300% की मात्रा विस्तार का प्रदर्शन किया। ग्राफीन नैनोप्लेटलेट्स (जीएनपी) ने 117 एम 2 / जी के विशिष्ट सतह क्षेत्र को दिखाया। जैसा कि उत्पादित जीएनपी प्रकृति में अत्यधिक क्रिस्टलीय होते हैं जिनमें बहुत सीमित दोष होते हैं। माइक्रोवेव विकिरण और कतरनी मिश्रण द्वारा जीएनपी तैयारी थोक उत्पादन के लिए एक अनूठी नई प्रक्रिया है।
मुख्य विशेषताएं
- बहुत उच्च पहलू (चौड़ाई से मोटाई) अनुपात
- अधिकांश प्लेटलेट्स 10 एनएम मोटाई से कम होते हैं
- लगभग सभी पॉलिमर के साथ संगत;
- ऊष्मीय और विद्युत प्रवाहकीय
- कार्बोक्सिल और हाइड्रॉक्सिल जैसे स्वाभाविक रूप से होने वाले कार्यात्मक समूह होते हैं
- स्केलेबल उत्पादन प्रक्रिया
संभावित अनुप्रयोग
- सुपरकैपेसिटर के लिए इलेक्ट्रोड
- ऊष्मीय प्रवाहकीय योजक
- Electrically conductive additive
- विद्युत प्रवाहकीय योजक
- A पहनने और घर्षण संशोधक
- मिश्रित सामग्री (बहुलक, धातु और सिरेमिक मैट्रिक्स) के लिए योजक
- धातु आयन बैटरी के लिए एनोड सामग्री (ली, ना और के)
बौद्धिक संपदा विकास सूचकांक (IPDI)

- अनुरूप आकार के साथ स्केलेबल मात्रा
- स्केल-अप और प्रोटोटाइप मॉड्यूल स्थापित किया गया है
- भारी-शुल्क मिक्सर-चालित थोक उत्पादन का प्रदर्शन चल रहा है
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वस्त्र अनुप्रयोग के लिए दृश्य-प्रकाश-संचालित संशोधित टाइटेनिया का स्व-सफाई मूल्यांकन
सिंहावलोकन
दृश्य-प्रकाश सक्रिय सामग्री विकास गतिविधि के हिस्से के रूप में, टाइटेनियम डाइऑक्साइड पर आधारित अत्यधिक दृश्य प्रकाश सक्रिय फोटोकैटलिस्ट कार्बन युक्त नैनोस्ट्रक्चर सामग्री, सी-टीआईओ 2 कोर-शेल नैनोकणों को एक इन-सीटू लियोथर्मल प्रक्रिया द्वारा संश्लेषित किया गया है। फोटो उत्प्रेरक स्व सफाई अनुप्रयोग। दृश्य प्रकाश फोटोकैटलिस्ट शामिल कपड़े की स्व-सफाई संपत्ति का मूल्यांकन किसके लिए किया गया है? दृश्य-प्रकाश रोशनी के तहत गैस चरण एसिटालडिहाइड (सीएच 3 सीएचओ) का अपघटन। न ही एकाग्रता में कमी वाणिज्यिक TiO3 के साथ CH2CHO और न ही CO2 की सांद्रता में वृद्धि देखी जाती है। इसके विपरीत, पूर्ण अपघटन एसिटालडिहाइड को समग्र (कार्बन नैनोकणों के साथ TiO2) के लिए देखा गया, जिसमें इनडोर और आउटडोर की रोशनी के तहत कपड़े शामिल थे प्रकाश। वीओसी को हटाने के लिए पेंट अनुप्रयोगों के लिए विकसित दृश्य प्रकाश सक्रिय सामग्री के अनुप्रयोग का विस्तार किया जा सकता है।
मुख्य विशेषताएं
- अत्यधिक दृश्यमान प्रकाश सक्रिय फोटोकैटलिस्ट, सी-टीआईओ 2 कोर-शेल बनाने की एक विधि नैनोकणों को एक इन-सीटू लियोथर्मल प्रक्रिया द्वारा।
- सी-टीआईओ 2 के फोटोकैलाइटिक स्व-सफाई गुण का मूल्यांकन किसके लिए शामिल वस्त्र कपड़े के लिए है? वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों (गैसीय एसिटालडिहाइड) का अपघटन।
- C-TiO2 के फोटोकैलाइटिक प्रदर्शन वाणिज्यिक दृश्य-प्रकाश संचालित के बराबर हैं यूवी के तहत वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों के अपघटन के लिए फोटोकैटलिस्ट, दृश्यमान और सौर प्रकाश रोशनी
संभावित अनुप्रयोग
- वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों को हटाने के लिए स्व-सफाई अनुप्रयोग (वस्त्र, पेंट)
- एंटी-बैक्टीरियल (अस्पताल) आवेदन
बौद्धिक संपदा विकास सूचकांक (IPDI)

- दृश्य-प्रकाश को संश्लेषित करने के लिए एक सरल, लागत प्रभावी और बड़े पैमाने पर प्रक्रिया विकसित की कार्बन युक्त सक्रिय टाइटेनियम डाइऑक्साइड नैनोस्ट्रक्चर सामग्री
- मूल्यांकन किए गए प्रोटोटाइप नमूने के लिए सफलतापूर्वक मूल्यांकन किया गया (सी-टीआईओ 2 शामिल कपड़ा कपड़ा) गैसीय एसिटालडिहाइड के फोटोकैलाइटिक अपघटन की स्व-सफाई के लिए।
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प्रमुख पेटेंट / प्रकाशन
प्रमुख पेटेंट
प्रमुख प्रकाशन
- दृश्य प्रकाश सक्रिय फोटोकैलाइटिक स्व-सफाई अनुप्रयोगों के लिए नैनोस्ट्रक्चर्ड सी-टीआईओ 2 मिश्रित सामग्री के उत्पादन की विधि, भारत पेटेंट आवेदन संख्या 201811011478 दिनांक 28 मार्च, 2018।
- एंटी-बैक्टीरियल अनुप्रयोगों के लिए कुशल ZnO-आधारित दृश्यमान-प्रकाश-संचालित फोटोकैटलिस्ट "ACS Apple. Mater" इंटरफ। 6, 13138-13148, 2014.
- बेहतर दृश्य-प्रकाश फोटोकैलाइटिक गतिविधि के लिए इन-सीटू सह-उत्प्रेरक संशोधित Ti3+-स्व-डोप्ड TiO2 के विकास के लिए एक आसान एक कदम मार्ग, एसीएस एप्पल मेटर। इंटरफ। 8,27642-27653, 2016.
- उन्नत दृश्य प्रकाश फोटोकैलाइटिक गतिविधि के लिए एजी डोप्ड एजी संशोधित टीआईओ 2 में कुशल चार्ज ट्रांसफर के लिए ऊर्जा स्तर मिलान, मिश्र धातु और यौगिक , 794, 662-671, 2019
कपड़ों पर लौ रोधी कोटिंग्स
सिंहावलोकन
कपड़ों पर हैलोजनयुक्त लौ रोधी फिनिश की विषाक्त प्रकृति के कारण वस्त्रों के लिए हैलोजन-मुक्त लौ रोधी (एफआर) फिनिश की हालिया आवश्यकता हुई है। इसके अलावा, हाल के वर्षों में कार्बनिक विलायक आधारित फॉर्मूलेशन भी जांच के दायरे में आए हैं। इसलिए, कपड़ों के लिए सुरक्षित और पर्यावरण के अनुकूल लौ रोधी योगों के संश्लेषण के लिए पानी आधारित और हैलोजन-मुक्त सोल-जेल संरचना एक बुनियादी आवश्यकता है। एआरसीआई द्वारा विकसित हैलोजन-मुक्त, पानी-आधारित सोल-जेल कोटिंग फॉर्मूलेशन जब कपड़ों पर जमा किया जाता है, तो सीमित ऑक्सीजन इंडेक्स को बढ़ाने के लिए पाया गया था, प्रज्वलन के बाद पर्याप्त लौ मंदक गुण प्रदान करता है और प्रज्वलित होने पर भी लौ का आत्म-शमन करता है। प्रक्रिया एक सोल-जेल मैट्रिक्स के साथ संयोजन में नैनोस्केल्ड धातु ऑक्साइड पाउडर का उपयोग करती है, जो कपड़े के लिए अच्छे आसंजन के साथ लौ मंदक गुण प्रदान कर सकती है।
मुख्य विशेषताएं
- ऑक्सीजन इंडेक्स को सीमित करना: एफआर उपचारित कपास के लिए 37.5% और अनुपचारित कपास के लिए < 21%
- एफआर उपचारित कपड़ा प्रज्वलित नहीं होता है या यहां तक कि अगर प्रज्वलित होता है, तो 2 सेकंड के बाद स्वयं बुझ जाता है
- कपास, नायलॉन, पॉलिएस्टर पर लागू किया जा सकता है
- एफआर उपचार के लिए डिपिंग या पैडिंग जैसे सरल तरीकों का उपयोग किया जा सकता है
- नियर इंफ्रारेड (एनआईआर) विकिरण का उपयोग करके कोटिंग्स को बहुत तेजी से ठीक किया जा सकता है
संभावित अनुप्रयोग
- रेलवे कोच के वातानुकूलित डिब्बों में पर्दे
- वातानुकूलित बसों में पर्दे
- आग बुझाने के कपड़े
- प्रयोगशाला एप्रन
बौद्धिक संपदा विकास सूचकांक (IPDI)

- प्रदर्शन और स्थिरता प्रयोगशाला पैमाने पर मान्य हैं
- स्केल-अप और प्रोटोटाइप सत्यापन किया जाएगा
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प्रमुख पेटेंट / प्रकाशन
प्रमुख पेटेंट
- कपड़ों को लौ रोधी संपत्ति प्रदान करने के लिए एक बेहतर कोटिंग संरचना और इसे तैयार करने की प्रक्रिया - जल्द ही दायर की जाएगी
स्व-सफाई अनुप्रयोगों के लिए बहुक्रियाशील टाइटेनिया माइक्रोसेफर्स
सिंहावलोकन
स्व-सफाई अनुप्रयोग के लिए एआरसीआई में एक नया टाइटेनियम डाइऑक्साइड आधारित सामग्री विकसित की गई है। टाइटेनिया कण माइक्रोमीटर में होते हैं? आकार लेकिन नैनोस्ट्रक्चर के कारण सभी विशेष गुण होते हैं। यह नैनोटॉक्सिकोलॉजी से संबंधित किसी भी जोखिम को काफी कम करता है और अभी भी नैनो आकार के सभी लाभ प्रदान करता है जो इसे प्रसंस्करण, हैंडलिंग और उपयोग के लिए सुरक्षित बनाता है। माइक्रोन आकार के टाइटेनिया गोले किसके द्वारा तैयार किए जाते हैं? रूटाइल चरणबद्ध टाइटेनिया नैनो रॉड की स्व-असेंबली एक प्रमुख भाग के रूप में और एनाटेज़ चरणबद्ध टाइटेनिया और चांदी या चांदी के कणों से सजाया गया है इसकी सतह पर क्लोराइड। यह संरचना और आकृति विज्ञान बहुक्रियाशीलता को जन्म देता है जैसे कि स्व-सफाई, रोगाणुरोधी, यूवी संरक्षण और उज्ज्वल. यह उत्पाद "सेल्फ क्लीनिंग" संपत्ति में अपनी उच्च दक्षता के लिए साबित हुआ है। यह तकनीक एक भारतीय को हस्तांतरित की गई थी कपड़ा अनुप्रयोगों के लिए उद्योग और सफलतापूर्वक व्यावसायीकरण। एक ही सामग्री को कई अन्य अनुप्रयोगों में बढ़ाया जा सकता है।
मुख्य विशेषताएं
- टाइटेनिया न्यूट्रल पीएच पर पानी में निलंबन को माइक्रोसेफर्स करता है
- कुशल फोटोकैटलिस्ट
- एंटी-बैक्टीरियल
- यूवी अवशोषक
- दृश्य मान प्रकाश परावर्तक
- सरल और स्केलेबल रासायनिक संश्लेषण
- नई प्रक्रिया जिसके लिए पेटेंट लागू किया जाता है
संभावित अनुप्रयोग
- स्व-सफाई वस्त्र
- वायु शुद्धिकरण
- जल शुद्धिकरण
- कार्बनिक बहिःस्राव उपचार
- दीवारों की स्व-सफाई के लिए बाहरी भवन पेंट के लिए योजक
बौद्धिक संपदा विकास सूचकांक (IPDI)

- प्रयोगशाला पैमाने पर मान्य स्व-सफाई और अन्य गुण
- प्रयोगशाला स्तर पर स्थापित 200 ग्राम प्रति बैच उत्पादन तक स्केल-अप
- कपड़ा अनुप्रयोग के लिए सफलतापूर्वक व्यावसायीकरण
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प्रमुख पेटेंट / प्रकाशन
प्रमुख पेटेंट
प्रमुख प्रकाशन
- भारतीय पेटेंट संख्या 282988: अत्यधिक स्थिर जलीय नैनो टाइटेनिया निलंबन के उत्पादन की बेहतर विधि, नेहा यशवंत हेबालकर और टाटा नरसिंह राव
- भारतीय पेटेंट 291408: जीवाणुरोधी और स्व-सफाई सतहों के लिए उपयोगी द्वि-कार्यात्मक सिलिका कणों की तैयारी के लिए बेहतर प्रक्रिया, नेहा हेबालकर, टाटा नरसिंग राव, आवेदन संख्या 3071 /
- भारतीय पेटेंट संख्या 291408: बहुक्रियाशील, स्व-इकट्ठे, मिश्रित पिसे टाइटेनिया गोले के उत्पादन की विधि, नेहा हेबालकर, टाटा एन। राव